Hochklarheit optische Borosilikatglassubstrate in Halbleitern Material: Grundzusammensetzung: hauptsächlich Siliziumdioxid (SiO2) und Bortrioxid (B2O3) mit minimalem Alkaligehalt. Herstellung: Erzeugt ...Ansicht mehr
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Hochklarheit optische Borosilikatglassubstrate in Halbleitern