Hochpräzisionsoptische Komponente aus geschmolzenem Siliziumglas JGS1 JGS2

Hochpräzise optische Komponente aus JGS1 JGS2 Quarzglas

1. Materialzusammensetzung

• JGS1 Quarzglas: Synthetisches Quarzglas mit außergewöhnlicher Ultraviolett-(UV)-Transmission, insbesondere im tiefen UV-Bereich (185-250 nm), und geringem Hydroxyl-(OH)-Gehalt.

• JGS2 Quarzglas: Synthetisches Quarzglas mit überlegener Infrarot-(IR)-Transmission und höherer thermischer Stabilität, mit höherem Hydroxylgehalt für unterschiedliche optische Leistung.

• Hochpräzisionsfertigung: Die Komponenten werden unter Verwendung fortschrittlicher CNC-Schleif-, Diamantdreh- und Poliertechniken hergestellt, um Submikron-Oberflächengenauigkeit und enge Maßtoleranzen zu erreichen.

2. Wichtige optische und physikalische Eigenschaften

• Spektraler Transmissionsbereich:

  • JGS1: Hervorragende Transmission von 185 nm (Deep UV) bis 2,5 µm (Near-IR).

  • JGS2: Hervorragende Transmission von 260 nm (UV) bis 3,5 µm (Mid-IR).

• Thermische und mechanische Stabilität: Extrem niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient (0,55 x 10⁻⁶/K), hohe Thermoschockbeständigkeit und hohe mechanische Haltbarkeit.

• Oberflächenqualität: Kann Laser-Oberflächengüten erreichen (z. B. λ/10 Ebenheit, 10-5 Kratzer-Graben) mit minimaler Unterschäden.

• Laser-Schadensresistenz: Hoher Schwellenwert, geeignet für Excimer-, UV- und Hochleistungslaseranwendungen.

3. Kernfunktionen

• Präzise Lichttransmission und -steuerung: Manipuliert UV- bis IR-Licht mit minimaler Wellenfrontverzerrung, Streuung oder Absorption.

• Strahlsteuerung und -fokussierung: Dient als hochpräzise Linsen, Fenster, Prismen und Spiegel in komplexen optischen Pfaden.

• Umwelt- und Wärmebarriere: Schützt empfindliche interne Optiken in volatilen Umgebungen und behält gleichzeitig die Stabilität über weite Temperaturbereiche bei.

• Systemkritische Schnittstelle: Gewährleistet eine optimale Leistung in Anwendungen, die eine exakte optische Ausrichtung und minimalen Signalverlust erfordern.

4. Hauptanwendungen

• Halbleiter-Photolithographie: Kritische Komponenten in Steppern und Scannern, die Deep-UV-(DUV)-Laser verwenden.

• Hochleistungslasersysteme: Fenster, Linsen und Strahlführungoptiken für Excimer-, Nd:YAG- und Faserlaser.

• Astronomie- und Weltraumoptik: Teleskopspiegel, Satellitenlinsen und Spektrometerkomponenten, die thermische Stabilität erfordern.

• Analytische und Biowissenschaftliche Instrumente: UV-Vis-Spektrophotometerzellen, Fluoreszenzdetektorfenster und Mikroskopoptiken.

• Industrielle Messtechnik und Inspektion: Präzisionsoptik für Laserinterferometer, Wafer-Inspektionssysteme und optische Koordinatenmessmaschinen.