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Produktdetails:
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| Struktur: | Konvexe Konkave | Oberfläche: | Poliert |
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| Übertragung: | Über 90% | Beschichtung: | Verfügbar |
| Anwendung: | Optik und Beleuchtung | OEM: | Verfügbar |
| Hervorheben: | Positive Meniskuslinse,Negative Meniskuslinse,Positiv-Negativ-Meniscus-Linsen aus Silizium |
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Custom Positive/Negative Meniskuslinsen in BK7/Fused Silica für Strahlformung und Fokussierung
Material und Kern-Eigenschaften:
Diese benutzerdefinierten Linsen werden aus zwei erstklassigen optischen Materialien hergestellt, ausgewählt nach der Wellenlänge Ihres Systems und den Anforderungen der Umwelt:
BK7 (H-K9L) optisches Glas:Das branchenübliche Kronenglas bietet eine hervorragende Übertragung über das sichtbare und nahe IR-Spektrum (350nm - 2,0μm), hohe Homogenität und Kosteneffizienz für die meisten Anwendungen.
Fusionssilikon (SiO2):Es bietet eine überlegene Leistung für UV- und Hochleistungslasersysteme. Zu den wichtigsten Eigenschaften gehören extrem geringe thermische Expansion, hohe Laserschadensschwelle (LDT),und eine breite Übertragung von der tiefen UV (190nm) bis zur nahen IR.
Präzisionsanpassung:Beide Oberflächen werden an spezifische Radien angepasst, wodurch positive (konvergierende) oder negative (divergierende) Meniskusformen erzeugt werden können.Linsen sind mit hochpräzisen antireflektiven (AR) Beschichtungen erhältlich, die auf Ihre Betriebswellenlänge zugeschnitten sind.
Hauptfunktion:
Die einzigartige asymmetrische Meniskenform - eine konvexe und eine konkave Oberfläche - ermöglicht eine fortschrittliche optische Korrektur und Steuerung.
Abweichungen minimieren:Das Meniskusdesign ist für die Verringerung der kugelförmigen Aberration und Feldkrümmung in komplexen optischen Baugruppen von grundlegender Bedeutung, was zu einem schärferen Fokus und einer verbesserten Bildqualität führt.
Genaue Strahlform:Anpassungsradien ermöglichen es Ingenieuren, die Konvergenz oder Divergenz eines Laserstrahls zu optimieren, Strahlprofile zu korrigieren oder Strahlen für spezifische Prozesse wie Faserkopplung vorzubereiten.
Systemintegration:Dient als kritisches Korrekturelement in Multiobjektiven, Kollimatoren und Kondensatoren und bietet oft Leistungen, die mit einfachen Objektivformen nicht erreichbar sind.
Schlüsselanwendungen:
Lasersysteme:Für die Beam-Erweiterung/Zusammenziehung, die Kollimation und die Fokus-Punktgrößenkontrolle bei Bearbeitung, Markierung und medizinischen Lasern.
Bildgebung mit hoher Auflösung:Wird in Mikroskopobjektiven, Teleskopokulpieren und fotografischen Linsen verwendet, um optische Abweichungen zu korrigieren.
Glasfaser und Telekommunikation:Für die effiziente Kopplung von Licht in und aus optischen Fasern mit minimalem Verlust.
UV-Lithographie und Spektroskopie:Fusionierte Silikameniskolinsen sind in tiefen UV-Systemen von entscheidender Bedeutung, wo Materialreinheit und thermische Stabilität von größter Bedeutung sind.
| Material | Optisches Glas, geschmolzenes Silizium, Quarz |
| Durchmesser Toleranz | +0/-0,15 mm |
| Ausmaß der Abweichung | +/- 0,15 mm |
| Cler Aperture | mehr als 90% |
| Oberflächenqualität | 80/50~10/5 Kratzen und Graben |
| Übertragung | über 92% |
| Schaum | 0.1-0.5 mm x 45 Grad |
| Toleranz der Brennweite | +/-1,5% |
| Toleranz der Rückenbrennweite | +/-1,5% |
| Beschichtung | verfügbar |
| Gebrauch | Im Bereich der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik, der Elektrotechnik usw. |
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