Produktdetails:
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Shape: | Flat or Round | Surface: | Optical grade |
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Transmission: | >90% for visible light | Beschichtung: | Erhältlich |
Processing: | Polishing | OEM-Produkte: | Erhältlich |
Hervorheben: | Präzisionsoptik geschmolzener Siliziumglasscheiben,UV-geschmolzenen Siliziumglasscheiben |
UV-Fusionsglasscheiben aus Silicium für Präzisionsoptik und Lasersysteme
Material
UV-verschmolzenes Silizium: Synthetisches Glas aus hochreinem Siliziumdioxid (SiO2), optimiert für die Übertragung von ultraviolettem Licht (UV).
Abschlüsse: beinhaltet JGS1 (Tiefe UV-Transparenz, 1852500 nm) und JGS2 (2202500 nm), wobei Leistung und Kosten ausgeglichen werden.
Reinheit: Niedrige Metallverunreinigungen und ein geringer Hydroxylgehalt (OH) sorgen für eine minimale Absorption im UV-Spektrum.
Schlüsselmerkmale
UV-Transparenz: Außergewöhnliche Übertragung von tiefen UV-Strahlen in das nahe Infrarot (NIR), entscheidend für UV-Laseranwendungen.
Wärmestabilität: Niedrige thermische Ausdehnung (≈0,55 x 10−6/°C) widersteht der Verformung durch hohe Laserleistung oder Temperaturveränderungen.
Chemische Resistenz: Inert gegenüber Säuren, Lösungsmitteln und Plasmen, ideal für raue Industrieumgebungen.
Laserschadensschwelle: Hohe Widerstandsfähigkeit gegen laserinduzierte Schäden, geeignet für pulsierte und kontinuierliche Wellenlaser.
Oberflächenqualität: bis zu λ/10 flach poliert mit minimalen Unterflächenfehlern, um eine präzise Strahlkontrolle zu gewährleisten.
Homogenität: Einheitlicher Brechungsindex (±5 x 10−6) für verzerrungsfreie Optik.
Funktion
Optische Fenster: Übertragen von UV-Licht und schützen dabei empfindliche Bauteile vor Umweltfaktoren.
Substrate: dienen als Basis für Beschichtungen (Anti-Reflexions-, Dielektrische) in Spiegeln, Filtern oder Strahlspalter.
Strahlübertragung: Beibehalten der Strahlintegrität in Laserhöhlen, Kollimatoren und Fokussierungssystemen.
Optische Flächen: Referenzflächen für Interferometrie und Kalibrierung bereitgestellt.
Anwendungen
Lasersysteme: UV-Excimerlaser, Nd:YAG-Systeme und Femtosekundenlaser für Strahlführung und Ausgangsfenster.
Halbleiterlithographie: UV-Lichtübertragung in Fotolithographie-Masken und Schrittsystemen.
Präzisionsoptik: Spiegel für Teleskope, Mikroskop-Slide und Interferometerkomponenten.
Medizinische Geräte: UV-Sterilisationsgeräte, Laserchirurgische Werkzeuge und Diagnostik.
Luft- und Raumfahrt: UV-Sensoren, LIDAR-Systeme und Hochenergielaseranwendungen (HEL).
Forschung: Spektroskopie, UV-Photonik und Quantenoptikversuche.
Name | Glasscheibe, Glaswafer |
Material | Optisches Glas, Qurartzglas, Pyrex, Borosilikatglas, Floatglas, Borofloat |
Durchmesser Toleranz | +0/-0,2 mm |
Ausmaß der Abweichung | +/- 0,2 mm |
Verarbeitet | Durch Schneiden, Schleifen, Temperen und Polieren |
Betriebstemperatur | Widerstandsfähig gegen Hochtemperaturschläge |
Oberflächenqualität | 80/50,60/40,40/20 |
Materialqualität | Keine Kratzer und keine Luftblasen |
Übertragung | > 92% für sichtbares Licht |
Schaum | 0.1-0.3 mm x 45 Grad |
Oberflächenbeschichtung | Erhältlich |
Gebrauch | Fotografie, Beleuchtungssystem, Industriegebiet. |
Ansprechpartner: Mr. Dai
Telefon: +86-13764030222
Faxen: 86-21-58508295